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化学湿台

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设备名称

化学湿台

用途

湿法 清洗 腐蚀

操作方式

手动/半自动/自动

适用领域

半导体材料、集成电路、MEMS、LED芯片、功率器件等

适用工艺

酸洗、碱洗、有机清洗、刻蚀、超声(兆声清洗)、QDR清洗、显影、去胶、电镀、旋干

清洗方式

槽式清洗 单片清洗

可清洗尺寸

2吋--12吋

药液供给

手动/自动

主体材质

PP PVC不锈钢

槽体材质

石英、PVDF、PTFE、NPP、 不锈钢等

温控精度

±1℃

安全防护

自动安全门、漏液报警、漏电保护、液位保护、急停、声光报警系统

模块化设计

满足客户多种工艺及产能的定制化要求

可编程菜单,方便用户操作,直观

实时流程显示,可控性强

多级密码,方便管理,安全可靠

自动保存生产数据

可实现远程控制

可实现功能

药液管理系统(自动供液、自动补液、循环过滤)、在线加热、甩干、电导率检测、恒温系统、百级FFU、自动灭火等

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